清洗技術研究員

崗位職責：
1.開展半導體晶圓清洗工藝研究，包括超潔凈清洗機理分析、新型清洗溶液調配開發，提出Si/W/Cu及異質材料晶圓表面各類缺陷控制工藝實現方法；
2.半導體晶圓新型清洗技術開發與工藝優化，滿足芯片特征節點發展帶來的嚴苛清洗要求；
3.聯合設備研發人員開發新型清洗裝備。

任職資格：
1.統本及以上學位，化學類背景，具有半導體濕法化學工藝研發經驗優先；
2.有較強分析問題能力、并能提出創新性解決方案者優先；
3.具有良好的英文溝通能力；
4.工作嚴謹、樂觀、主動，具有團隊合作精神。

上班地址：-天津-海河文化創意產業園